第七十四章 蚀刻机研制（1/2）

光刻机又名：掩模对准曝光机，常用的光刻机是掩膜对准光刻，是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术锻造，简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘刻印’在基底材料-硅片上，在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。

光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工，通过化学反应，物理撞击作用移除废弃‘硅片’上的废弃部分，再经历某些封装工艺，神奇硅片材料变废为宝，变成价值高昂的-电子芯片。

因为周兴的关系5纳米级蚀刻极量产可期，光刻机成为众人心中的重中之重，如果光刻机再有所突破，那么芯片领域会和高铁领域一样，突破西方国家封堵完成弯道超车。

“不过什么有话快说，别卖关子。”严教授瞪着周兴，催促地问：

“光刻机我是有研究过，不过，暂时没别的想法。”周兴看了严教授一眼，淡淡地说：

闻言，在场众人面色一松，露出意料之中的神色，脸上又带了一丝遗憾，神色复杂。

5纳米级蚀刻机的量产工艺被周兴攻克，如果连光刻机也被周兴突破了，那他的研发能力未免也太吓人了。

光刻机可比蚀刻机复杂多了，芯片的核心是光刻机，光刻机的核心是镜头，目前世界主流的光刻机还是深紫外侵入式光刻机，这个技术的极限是14纳米级以上，10纳米以下的光刻机则要用到极紫外光刻（euv）技术，这项技术即使国外巨头都尚处于实验室向商业化发展的阶段，鸿沟般的巨大差距不是轻易就能跨越的。

众人失望之余，又觉得理所当然。

“暂时没别的想法你的意思是你还是有想法的咯”与其他人不一样，严教授格外留意周兴的回答，步步紧逼地问：

“严老，我们还是先把蚀刻机量产工艺拿下再说吧！研发嘛，总要一步一步来，不要好高骛远嘛！”迎着严教授探究的目光，周兴神秘地笑了笑，避重就轻地说：

有周小智这个研发辅助利器，又有虚拟实验这个优质的研究环境，系统任务还尚未结算，如果有需要，研发极限纳米级的光刻机难度也算大，不过，还是得控制一下节奏，不然被‘相关机构’抓去切片研究就得不偿失了。

“你小子奸猾似鬼，心里现在肯定在想别的鬼主意！”严教授瞪着周兴不相信地说：

“好啦！老严别再为难小兴了，时机到了该发生的事情自然而然就会发生。”方教授哭笑不得地看着严教授，插话道：

“是啊，现在手头上的事情比较重要，我们赶紧把这台新式蚀刻机试造出来。”徐教授精神振奋地说：

“对了，老严，这件事还没跟郑主任汇报吧你赶紧跟沟通一下。”刘教授突然想到了什么，提醒严教授道：

“嗯，我马上通知他。”严教授愣了一下，连忙拿起手机走到一旁拨打起来：

老顽固严教授被刘教授支开了，现场画风突然一变。

“小兴，系统撞击模块我刚才没听清楚，你再跟我讲一下。”胡教授向周兴询问道：

“小兴，控制器的芯片是要用那个型号，回头我准备一下。”刘教授看着周兴问：

“大志，把图纸和绘图工具拿过来。”方教授看向郭大志吩咐了一句，看着众人道：“大家辛苦一下，今晚务必把总程的图纸整出来。”